昆柳龙直流工程龙门换流站极2高端直流穿墙套管就位安装

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随后于加州大学洛杉矶分校开展为期三年的博士后研究工作，龙直流工流站合作导师是知名的化学家、材料学家段镶锋教授和黄昱教授。程龙穿墙图3.1MKOH中的电化学OER性能。

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直流(d,e)a/c-NiFe-G的高分辨率TEM图和(f,g)选区FFT图。套管相关论文以题为ConstructingaGraphene-EncapsulatedAmorphous/CrystallineHeterophaseNiFeAlloybyMicrowaveThermalShockforBoostingtheOxygenEvolutionReaction发表在国际知名期刊ACSCatalysis上。

优异的OER性能，安装兼具高本征活性和高稳定性得益于丰富的无定形/晶体异质相界面、安装不饱和的配位构型以及超薄石墨烯包覆的核壳结构，在1MKOH中，a/c-NiFe-G表现出优异的OER性能，过电位和塔菲尔斜率分别低至217mV（@10mAcm-2）和33.9mVdec-1，转换频率（TOF）高至0.87s-1（是其晶体对应物（c-NiFe-G）的24倍），以及长时间稳定性（136h），优于大多数已报道的催化剂、晶体对应物c-NiFe-G和商用RuO2/IrO2。

2015年于美国莱斯大学化学学院获得博士学位，昆柳师从世界著名化学家JamesTour教授。最近的研究表明，龙直流工流站没有任何悬空键的自组装分子可以构建高度周期性的静电势，甚至在范德华键分子晶体中也实现了相干能带空穴系统。

(d)光学显微镜图像，程龙穿墙其中通道长度和宽度分别设计为250μm和60μm。门换(c)C8-DNBDT-NW价带的能带色散和积分态密度。

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